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N型隧穿氧化层接触钝化电池

所属行业：其他技术领域：新能源发布类型：技术难题需求者：黄建东状态：已发布

发布日期：2018-12-25

技术难题：

采用NAOS技术生长超薄隧穿氧化层进行多子选择性传输钝化；
采用高掺杂的多晶硅进行背面的整面场钝化；

3、pn结的边缘隔离。

所要解决的问题：

如何将NAOS技术应用于N型双面电池生产线；
如何获得可具量产性的高掺杂多晶硅的生长方式

技术指标：

电池最高效率23%，量产平均效率22%

需求者

黄建东

推广次数：248次 需求次数：388次